新規LC/MSイオン化法”軟X線重畳ESI”の追加データ_N-butylbenzene sulfonamideの例

エムエス・ソリューションズで開発中の軟X線重畳ESIは、ESIで生成した帯電液滴に軟X線を重畳照射する事で、ESIでイオン化し難い化合物のイオン化が促進されるという新規LC/MSイオン化法です。

 

今年の質量分析総合討論会で発表したポスターをホームページに掲載しています。今のところ、カルボニル基を有する低極性化合物に効果が認められています。何れも、ESIではイオン化し難い化合物です。一方、ペプチドや医薬品など、ESIでイオン化し易い化合物に対しては、今までの実験では、軟X線を重畳照射しても顕著な感度向上は見られませんでした。

 

しかし、最近の実験中に、ESIでバックグランドとして観測されるN-butylbenzen sulfonamideC10H15NO2S、モノアイソトピック質量213.082352)の[M+H]+が、軟X線重畳によって強度が増加している事に気付きました。この化合物、由来はよく分かりませんが、ESIイオン化によるLC/MSにおいて、正負両イオン極性で頻繁に観測されます。この例では、[M+H]+[M+Na]+ の合算強度において、ESI+軟X線はESIのみよりも約4倍増加しています。

N-butylbenzene sulfonamide

N-butylbenzen sulfonamide

 

マススペクトル_N-butylbenzene sulfonamide 

 

また、軟X線重畳ESIの特長として、ESIでは[M+Na]+ 強度が高い状況において、軟X線を重畳照射すると[M+Na]+ 強度が相対的に減少して、[M+H]+ 強度が増加する傾向が見られます。軟X線照射だけで効率よくイオン化する化合物は余り無く、ESIに重畳照射する事で種々の化合物に対してイオン化効率の向上が確認されています。

 

このイオン源は労働安全衛生法が適用されるので設置する前に届け出が必要ですが、興味ある方はご連絡下さい。

 

 

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エムエス・ソリューションズ株式会社
代表取締役 髙橋 豊
E-mail: tyutaka@ms-solutions.jp
http://www.ms-solutions.jp/
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